Internati o nal  Journal of Ele c trical   and Computer  Engineering  (IJE CE)  V o l.  6, N o . 3 ,   Ju n e   201 6, p p . 1 183   ~ 11 89  I S SN : 208 8-8 7 0 8 D O I :  10.115 91 /ij ece.v6 i 3.9 448          1 183     Jo urn a l  h o me pa ge : h ttp ://iaesjo u r na l.com/ o n lin e/ind e x.ph p / IJECE  Desi gn of a Nonvolatil e 8T1R SRAM Cell for  Instant-On Op eration       J. Mounic a , G . V.   G a nesh   Department o f  Electronics  a nd C o mmunication Engineer ing, K  University , A.  P ,  India         Article Info    A B STRAC T Article histo r y:  Received Dec 9, 2015  Rev i sed   Jan 19, 201 Accepte Fe b 5, 2016      Now-a-day s , En erg y  consumptio n is th e majo r k e y  factor  in Memories. B y   switching the  circuit  in off mode and  with  a n  lower volt a ge s, leads to   decre a s e  in an  power dis s i pation of the circ uit. Com p ared  to DRAM  SRAM’S are m o stl y  used  bec a u se of  thei r dat a  ret a ining  cap a b ilit y.  Th e   major advantag e of using SRAM’s rath er than  DRAM’S is that,  the y  ar e   providing f a st p o wer-on/off speeds. He nc e S R AM ’s  are m o re pr eferred  ove r   DRAM’s for better instant-on op eration.  Gen e ra ll y S R AM ’s  are  c l as s i fied  in   to two ty pes n a mely  volatile  a nd non-volatile SRAM’s.  non-volatile  S R AM  enables   chip to ach ieve  perform ance fa ctors  and als o  provides  a n   restore op eratio n which will b e  enab led b y   an   restore sign al  to  restore th data  and also p o wer-up operation is pe rformed. This pap e r des c ribes abou novel NVSRAM circuit which produces  b e tter “instant-o n operation”  compared to previous techniqu es used  in SRAM’ s . In addition to  normal 6T  S R AM  core, we are us ing RRAM  circ uitr y ( R esistive RAM) to provide   better instant-on  operation. B y  co mpari ng the perf ormance factors with 8T2R   and 9T2R, 8T1R  design performs the best  in th Nano m e ter scal e. Thus this   paper provid e s better performances in  power, en erg y , propagation  delay   and   area  fa ctors   as  c o m p ared with  ot her des i gns . Keyword:  En erg y  co nsum p t io n   Leaka g e reduct ion    Non - vo latile me m o ry  Po wer di ssi pat i o n    Resistiv e RAM (RRAM)  Static random  access m e m o ry   Tanner   Copyright ©  201 6 Institut e  o f   Ad vanced  Engin eer ing and S c i e nce.  All rights re se rve d Co rresp ond i ng  Autho r J. Moun ica,    Depa rtem ent of Electrical and Comm unication E ngi neeri n g,  K L Un iv ersity,  A P ,  I n dia.   Em a il: lsn tl@c c u . ed u.tw       1.   INTRODUCTION   Lat e  adva nces  i n  m e m o ry   i nno vat i o n ha ve  m a de concei va bl e ne w m e t hods o f  o p e r at i o n f o Na no   scale IC’s.  On th e o t h e r hand  SRAM ’s are u n -pred i ctab le, in  th is way  no n-stab ility cap acity is req u i red   for  shut d o w n  o p er at i ons [1] , [2] .  Gene ral l y   SR AM ’s  a r e p r eferre d tha n  DR AM’s  beca us e of it’s  d a ta  retain in cap ab ility. SRAM p e rform s   b o t h  vo latile a n d   n o n - vo latile  o p e ratio n s . In  o u r proj ect we co n c en trate mo re on  n on-vo latile SRAM wh ich  p r o d u ces in stan o n  op eratio [3] . Th ese are  desig n e d  i n  two  tech no log i es  na m e l y   transistor technol ogy and re s i stive t echnol ogy. In accordi ngly, resistive  t echnology use s  1R and 2R s e ries.  Co m p ared  to  2 R  series 1 R   p r od u ces m o re no n-vo latile  op eration  effect iv ely. Hen ce i n  th is  proj ect  we are  u s ing  resistiv e tech no log y  which  was o f ten  called  as  Resis tiv e RAM (RRAM). Fo r co n t ro lling  o r  fl o w in g   of  cur r ent / v ol t a ge  t h ro u gh t h e r e si st or,  we are  usi ng  on e ad di t i onal  t r an si st or w h i c was  so cal l e d as cont rol   tran sistor.  As we k now  t h at th tran sistor  will act as a  resisto r  i n  lin ear reg i on Th e R R AM circu itry wh ich   we are  u s ing  in th is  p a p e was act as  a “Me r mistor” (m e m o r y resistor) [4].  As the years  progresse d, e x pande d  thickness 6 4kb & quicke r get to  have  bee n  accounted  for  NVSVR A M’S for m i l itary a p p lication s . The p r og ramm in g  techno log y  o f  an  FPGA’s  are g e n e rally u tilizes  SRA M  technolo g y   [ 1 ].  Th en erg y  co n s um p t io n   [ 5 h a s b e co m e  a maj o r  sou r ce due to  an  con s ider ab ly  increase  in a n  l eakage  c u rr ent   whi l e   we a r r e duci n g  i t s s u ppl y   vol t a ge a n d  feat ure  si ze  of  an  SR AM I n st ant   Evaluation Warning : The document was created with Spire.PDF for Python.
                        I S SN 2 088 -87 08  IJEC E   V o l .  6,  No . 3,  J u ne 2 0 1 6   :    11 8 3  – 11 89   1 184 o n  op eratio mean s,  b y  ap plyin g  rest o r e an d power-up op eration  t h d a ta  h e ld in th SRAM  will b e  cleared  and that  will be placed wit h  t h non- volatile data  held i n  t h e st ora g e cel l .  [6],[7] The  de m a nd  for SR AM is   in creasing  with   larg e u s e of SRAM  in  syste m -o ch i p   a n d i n  hi gh  pe rf o r m a nce VLS I   ci rcui t s Due  t o  r a pi d   i n crease i n  t h r e sh ol vol t a ge  [3] , [6] , [8]   fl u c t u at i ons  w h i c h w e re ca use d  by  t h vari at i ons  i n   ul t r a s h o r t - chan nel   de vi ces, [ 9 ]   6T  SR A M  an d i t s  pa r a m e t e rs can  n o t  be  w o r k ed   un der  hi ghl y  s u p p l i e v o l t a ges  whi c h   causes a n  yield loss  [10].  I n  t h is pro j ect , w e  ar u s ing a r e sistor  instead  of   p a ss t r an sist o r  t h oug h it p r ov id es less en er g y   consum ption  because; pas s  transistor  logic doe s not provi d e a com p lete ‘0’  or ‘1’ a s  an output signal . The  Nan o  m e t e r t echn o l o gi es  use d  i n  t h i s  pa per  are o f   22 nm  te chnology. T h e y  are BSIM (B erkley Short-c h annel   IGF ET M odel ) , T S M C  (Ta l wan  Sem i conduct o r M a n u f act uri n g C o m p any  Lt d)  an d PTC   (P redi ct i v e   Technol ogy M odel )  [11].  The   45  nm  technol ogy lea d s to t h e dra w backs   of stability, delay and a n  inc r e a se in  po we r di ssi pat i on ca uses seve re vt  vari at i o n [6] , [1 2]  i n   ultra short-c h anne l devices at  an aggressively scaled  technology nodes suc h  as 22nm . The ne t constraints s u ch  as power, ene r gy  ,delay are  calculated using this  technology.    1. 1.   R e sist i v e Techno logy  R e si st i v e R a nd om  Access M e m o ry  (R R A M  or R e  R A M )  i s  one  o f  t h e t y p e  of  N V R A M   t h at  w o r k s   by the cha nge  of a resista n ce  value acr oss a  dielectric  m a te rial ie a solid st ate  m a terial which work  or a c t as a   mer m isto r [4 ].  A m e r m isto r is an on e of t h form  a n on-vo l a tile  m e m o ry  t h at was b a sed  o n   th switch i n g  of  an  resisto r  th at  in  tu rn s resu lts  in  in creasing  t h e cu rren t   fl o w  t h r o u g h   resi st or i n   one  di rect i on a n decrea ses i n   th e ano t h e r d i rectio n  ie  o ppo site d i rection. Th e m a teri als use d  i n  t h i s  t echn o l o gy  ar e of i n  b r oa ran g e   ap p lication s Th ey rang e fro m h ealth  care t o   v i d e o  su rv eillan ce an d o t h e r po wer  g a ting  tech n i q u e s [13 ] The  phy si cal  p h en om enon  w h i c has  bee n   do ne si nce  40y ears i n  t h e R R AM  ci rc ui t r y  o p erat i o was   resi st ance swi t chi n g w h en a n  i nput  v o l t a ge  or c u r r ent  i s  appl i e d ,  t h at  re si st ance was s o  cal l e d as ne gat i v resistance  [11]. MOM (Metal-Oxi de-M etal) s t ructures s u c h   as SiO x , Al 2 O 3 , TO 2 O 5 , Z r O 2  &  TiO [8 ]   are som e   of the m a terials that produce negativ resistance. In a bipolar RRAM, wh en t h e ap pl i e vol t a ge c h a nge s by   in creasing ,  an   in itial h i g h  resistan ce state g r ad u a lly d ecrea ses to  lo w resistan ce state. Th is is so  called  as a  SET (Single  El ectro n T r ansist or).      2.   CO NVE NTI O N A L DE SI GN   Th is p a p e r fu lly d e scrib e s abo u t  th e techn o l o g y  u s ed  fo r ach i ev ing  a no n-vo latile SRAM fo r in stant   o n   o p e ration .   RRAM p r o v i des g ood  stab ility an d  also  produ ces a p e rfect o u t p u t  as co m p ared  to p a ss  tran sistor log i c. Th e no rm al 6 T  SR AM cel l p r o v i d e p oor stab ility an d h i gh   h a s static no ise m a rg in s.  On   d o i n g  t h is op eratio n ,  th e stab i lity o f  an  SRAM cell d ecreases d u e  t o  app l y v o ltag e   d i v i d e r b e tween  th d r i v er  transistors.    2. 1.   Previous NVSRAM’s   Th is section   rev i ews t w o NVSRAM cells usin g  RR AM’s  for  n o n - vo latile sto r ag e. Th e 8 T 2 R  and  9T 2R  cel l s  ad o p t  di ffe rent   pr o cess an sche m e s t o  p r o g r a m   t h e N V SR A M   2. 1. 1.   8T 2 R   NV SR A M  mem or y ce l l  [1]   Th 8 T 2 R   NVSRAM cell is  p l ann e d u tilizin g a co m p le m e n t ary circu it (Fig ure  1 )  as sh own b e l o w.      Evaluation Warning : The document was created with Spire.PDF for Python.
I J ECE   I S SN 208 8-8 7 0 8       Design   o f   a  Non v o l a tile 8 T 1 R  S R AM Cell fo r In stan t-On Opera tion  (J. Mou n i ca 1 185     Fi gu re  1.  R R A M  base 8T 2R  N V SR AM  cel l       Two  RRAMs  (RRAM1, RRAM2) are  u tilized  p e r SR AM cell (g iv en   b y  th e MOSFETs M1 -M 6 ) The re sistive c o m pone nts are  joi n ed  w ith t h e inform ation hubs  of t h e SR AM  cell to store the intellige n t data  fo r t h 6T cel l  du ri n g  "F orce  of f", i n  t h i s  m a nner  wi t h st andi ng t o  t h gene ral  m odel  of a  NV SR A M , t h e   resistive com pone nts are a  piece of two RRAMs and are  go tten to utilizing two contro l transist ors .  Acc o rding  to the data put away at the inform at ion hubs (D,  DN)  of the 6T center,  each RRAM  is  m odified either to a  LRS  or  H R S [1 4 ] ,[ 15 ]. A t   the  po in t w h e n  t h force s u ppl y is turned ON, th e i n form ation is c o m posed  back t o   the 6T SR AM  center i n   view  of the states   put away in t h re sistive com p onents   2. 1. 2.   9T 2 R   NV SR A M  mem or y ce l l   So al s o , t h 9T 2R  m e m o ry  cel l  (Fi g u r 2)  [ 1 ]  expl oi t s  t w pr o g ram m abl e   R R A M s  f o n o n - u nst a bl e   capacity amid the "S hu t dow n" state as sh own   b e low .             Fi gu re  2.  R R A M  base 9T 2R  N V SR AM  cel l       No t w ith stand i n g  a  6 T  SR AM cen ter, a levelin g  tran sist or is prese n ted.  The s o urce a n d deplete of the   center tra n sistor are  joine d  with  the capac ity hubs D a n d DN sepa rate ly. The entryways of the two access  tran sistors of th e SRAM cen t e r an d  th e ev en ing  ou t tran si stor are ent w ined to th e Restore signal. Likewise   Evaluation Warning : The document was created with Spire.PDF for Python.
                        I S SN 2 088 -87 08  IJEC E   V o l .  6,  No . 3,  J u ne 2 0 1 6   :    11 8 3  – 11 89   1 186 uni que in  relation to the  8T2R circuit, it uses j u st a  solita ry Piece Line (BL) and  presents an ext r a Source   Li ne (SL )  t o  p r o g ram  t h e t w o R R A M s. T h e m i ddl e of t h e road  hubs of the two  1T1R cells are ass o ciate d   with  th e first an d supp lem e n t  BL’s  o f  th SRAM cen t er separately [6 ].  Th wellsp r i n g s  of two   word  lin signals  are ent w ine d  to the SL,  whil e alternate fini shes  of t h 1T 1R  cel l s  are  associ at ed  wi t h  B L .  Eac h   1T 1R  cel l  has  i t s   ow part i c ul ar  Wo r d  Li ne  (si gni fi ed as   WL L an WLR i n d i v i dually); alo n g  these lin es, th in fo rm atio n  are pu t away in th e t w o RRAM’s am id  th "Shu t   down" state a n restored bac k  to the  6T SR AM  center  when the  force  sup p ly is tu rn ed   ON.       3.   PROP OSE D  DESIG N   Th p r o p o s ed   8 T 1 R  NVSRAM o u tlin e is app eared  in   Figu re 3 .   In  t h is d e si g n   we  u s o n l y  o n e   1 T 1 R   (wi t h  a resi st i v e com pone nt  den o t e d as R R A M 1 was adde d t o  t h e n o r m a l 6T SR AM  cel l (M 1-M 6 ) .  Th e   resistiv e RRAM1  was con t rolled  b y  th e tran sisto r  wh ich  wa s above the re sistor. It is  j o ined  str a igh t fo rwar d l to  th e in fo rm atio n  nod e o f  t h e m e m o ry co re and  is u tilized  to  store th e lo g i c d a ta of th e SRAM fo rced  to   p r od u ce its "Sh u t   do wn " stat e. The tran sisto r  m easu r i n g   meth o d o l og y fo ou tlin ing  the 8 T 1 R  relies  o n  upon  th e cen ter of th e propo sed  cell (fo r th is situ atio n, a  6 T  SRAM) and  m u st co n s id er its Read / W rite operatio rig h tness .           Fi gu re  3.  Pr o p o se 8T1R  N V S R A M  cel l       Sub s equ e n tly, lik e th 8 T 2 R   NVSRAM cell  and  relying  up on  t h e p a rticu l ar  d a ta pu t away at the  SR AM  i n f o rm at i on h u b ,  t h e  R R A M  co m pone nt  cha nge s  i t s  resi st ance  bet w ee n t h e L o w R e si st ance  St at (LR S ) a n d t h e  Hi g h  R e si st ance St at e ( H R S ). T h SET  pr oce d u r e c h a nge s t h resi st ance c o m pone nt  fr om   HRS to LRS;  the RESET  proce d ure is  utilized for th e  opposite ope r ation.  To  accom p l i sh  non-unstable  "Inst a nt - o n " o p erat i o n,  [3]  t h e pr op ose d  m e m o ry  cell  has two esse nt i a l  st at es:  "Shut  d o w n" a nd "P o w er- up" "Forc e  up" re q u i r es t o  "R eset " (i .e. t h e R E SET pr oce d u r e hap p e n s i n  R R A M 1 ho we ver  i n fl uen c i n g l i k ewi s e   the m e m o ry  center) , "St o re"  a n d  "Resto re".       4.   SIM U LATI O N  RESULTS    AN D DIS C US SION S   4. 1.   8 T 2R  N V SRAM   cell   Th 8 T 2 R  NVSRAM m e m o ry cell si m u lati o n  resu lts  are  a s  f o l l o ws  N o r m al ly  SR AM   per f o r m s  bot read  and  write o p e ration s In read   op eration o f  th is  s p ecifi c SRAM cell perform s  operations like  when bot h   in pu ts su ch as  b it lin e an d word lin e are h i gh, th p r o d u ced   out put  i . e  q b   al so  go es t o  hi gh  [ 1 ] .   In write op eratio n ,  i f   word lin e is set to  l o w i.e  zer o, t h e  o u t p ut  st o r es  t h e p r e v i o us  S R AM  val u e   whi c per f o r m s  i n st ant - o n   o p e rat i o n .  T h e i n put s  re prese n t e in th is  Figu re 4 ,  5,  6  an d th ey are in th order  o f   b o tto m   to   top  (b l, wl, q ,  qb cn trl1,  cn trl2).  Evaluation Warning : The document was created with Spire.PDF for Python.
I J ECE   I S SN 208 8-8 7 0 8       Design   o f   a  Non v o l a tile 8 T 1 R  S R AM Cell fo r In stan t-On Opera tion  (J. Mou n i ca 1 187     Fi gu re  4.  Si m u l a t i on res u l t s   o f   8T2R  N V SR AM  ce ll fo r in stan t- on   op er ati o n at 22n m  tec h no log y       Th e abo v e  fi g   sh ows th e simu latio n resu lts  o f  8 T 2 R   NVSRAM cell fo r in stan t-on   op eratio n  at  22 n m   t echn o l o gy It   per f o r m s  bot read  an w r i t e   ope rat i o ns i n   n o rm al   m ode a n d i n  st an d b y  m ode In  n o r m a l   m ode  i t  perr f o rm s read  ope rat i o n a n d  i n  st a n d b y   m ode [7] ,  i t   pe rfo r m s  write op eration .  Su ppo se in th e abo v e figu re  if b itlin e is eq u a l to  1  and  also  wo rd lin e is eq u a l to  1  th en q b  is eq u a l to   1 .  In  o t her case if wo rd lin e is eq u a l   to  0, th en  t h ou tpu t  qb   sto r es  th e prev iou s   v a lu e wh ich rep r esen ts th e in stan t-o n  op erati o n.    4. 2.   9 T 2R NV SRAM  cell  The  9T 2R  N V SR AM  m e m o ry  cel l  si m u lat i on r e sul t s  a r e as Fi g u re  5. T h i s   fi g u re  sh ow s t h e   sim u lation res u lts of  9T 2R  NVSRAM  cell for insta n t-on  operation at  22nm  technology.  It pe rform s  bot read  and  w r i t e  o p er at i ons i n   no rm al   m ode a n d  i n  st an dby  m ode.            Fi gu re  5.  Si m u l a t i on res u l t s   o f   8T2R  N V SR AM  ce ll fo r in stan t- on   op er ati o n at 22n m  tec h no log y       Evaluation Warning : The document was created with Spire.PDF for Python.
                        I S SN 2 088 -87 08  IJEC E   V o l .  6,  No . 3,  J u ne 2 0 1 6   :    11 8 3  – 11 89   1 188 In norm a m ode and standby  m ode, it perform s  either  low or hi gh si gnal  i.e 0 (or) 1. Because he re  we ap p l y an   resto r sign al.  So , it will op erate in  stand b y  m o d e . As com p ared  to   p r ev iou s   on e it do es  no t   p r od u ces b e tter in stan t-on   o p e ratio n lik e th at  d e sign     4. 3.   8 T 1R  N V SRAM   cell  Th 8 T 1 R   NVSRAM m e m o ry cell si m u lati o n  resu lts are as Figu re 6. Th e figu re sh ows t h sim u l a t i on res u l t s  of  8T 1R   N V SR AM  cel l  f o r  i n st ant - o n   o p erat i o n at   2 2 n m   t echnol o g y .   It  pe rf orm s  b o t h   read   and  w r i t e  o p er at i ons i n   no rm al   m ode a n d  i n  st an by  m ode.          Fi gu re 6.   Si m u l a t i on  res u l t s  o f  8T1R   N V SR AM   cell fo r in stan t- on   op er ati o n at 22n m  tec h no log y     Thi s   pr op ose d  8T 1R  N V SR AM  p r o v i d es  i n st ant - on - ope r a t i on as  best   as com p ared t o   pre v i o us   t echn o l o gi es.  I n  rea d   o p erat i o n i t  pe rf orm s  t h e sam e  operat i on as  pe r t h pre v i o us t e c h n i ques a n d al so   i n  t h e   in  th write op eration  sam e  tech n i q u e  fo l l o w s. As   p e r th figu re, if wo rd lin e is eaq u a l t o   1  it  d o e sno t   p r od u ces an   perfect oup u t  si g n a l as  well if it will b e  eq ual to  0 ,  it stores th e prev i o us v a lu with   ou t an distortions  and also less  dela y and also m i n i m i zes so m e  perform a nce cri t eria due to  t h e  use  o f   rest o r si gnal   [6]  i n  o u r  de si g n He nce t h i s   p r o p o sed  desi g n  pr o duc es l e ss  del a y ,  l o po w e r a nd al s o   occ upi es  a l e ss am ou nt   of  area.  S o we  co nsi d e r  t h i s  a s  a  bet t e r de si g n   fo pr o duci n bet t e r i n st a n t - o n   o p erat i o n.       Tab l e 1 .   C o m p arisio of d i fferen t NVSRAM   typ e             5.   CO NCL USI O N   Th is p a p e p r esen ts th at a lo w po wer non -v o l atile SRAM (NVSRAM )  cell d e sig n   wh ich  can   b e   u tilized  fo r i n stan t-on   op eratio n i.e.  b y  ap p l yin g  rest ore and   p o wer-u p operatio n th d a t a  h e ld in  t h e SRAM  will be cleared and that will be pl aced wi th the non-vol a tile data held  in the storage  m e m o ry cel l .  The   p r op o s ed   8 T 1R SRAM m e m o ry cell ach iev e s in an drastic redu ction in  term s o f  en erg y  an d power as  NVSRAM  T y pes   Power   Energy  Delay   8T 2R  2. 63 W   5. 24J   2. 4525e- 0 1 0     9T 2R  9. 54W   10. 2J   5. 4525e- 0 1 2     8T 1R  2. 53W   7. 60J   2. 5251e- 0 1 0     Evaluation Warning : The document was created with Spire.PDF for Python.
I J ECE   I S SN 208 8-8 7 0 8       Design   o f   a  Non v o l a tile 8 T 1 R  S R AM Cell fo r In stan t-On Opera tion  (J. Mou n i ca 1 189 co m p ared  with o t h e NVSR AM m e m o ry c e lls as we d i scu ssed  in  th e introd u c tion  sect io n .  Th e normal 6 T   SRAM core re qui res efficien t  energy while  the written operation is ta king place a n d also in sta n dby  m ode.   Bu t, th n a tu re of an   no n-v o l atile  SRAM (NVSRAM) sav e s en erg y   d i ssip atio n in an   sig n i fican t  m a n n e r.  At   last, th is  p a p e sh ows th at t h p r op o s ed   NVSRAM m e m o ry  cell produ ces  an  efficien v a riatio n s  in all the n e t   constraints s u c h  as  delay,  power and e n ergy.       ACKNOWLE DGE M ENT   I sin c erely th an k to m y  p r o j ect g u i d e , who h e lp ed m e  in  all asp ects  o f   my p r oj ect to  co m p lete in   sh ort term W e  also  t h ank   KL Un iv ersity for  p r ov id ing   n ecessary facilities to ward s carryin g ou t th is wo rk     REFERE NC ES   [1]   W. Wei, “Design of a Non-v o latile 7T!R  S R AM  cell  for  Ins t ant-On Op erat ion,”   IEEE transactions o n   nanotechno logy , vol/issue: 13(5) , 2014.  [2]   O. Turk yilm a z et al ., “RRAM-based FPGA for “Nor mally  O ff,  Instantl y On” A pplic ations,   Pr oceed ings  of 20 12  IEEE/ACM In ter national S y mpos ium on Nanoscale Arch itectures pp. 101-108 , 20 12.  [3]   C. E. Herd t, “Nonvol atile SRAM – the N e xt G e neration,”  Non v olatile Memory Technolog y Review 1993 , pp 28- 31, 1993 [4]   M. F. Chang,  et  al ., “Enduran ce-Aware Circuit De signs of  No nvolatile Log i and Nonvolatile SRAM Using   Re sistive  Me mory  (Me m ristor) De vic e ,   2012 1 7 th Asia and South Pacific Design Automation  Conference ( A SP- DAC) , pp.   329- 334, 2012 [5]   R. K. Sah ,  “Performance Comparison for Di fferent Configur ations of SRAM  Cells,”  International Journal  o f   Innovative  Research in S c ienc e,  Engineering and  Technolog y , vol/issue: 4(1) , 201 5.  [6]   A. Is lam  and M .  Has a n,  “ L eak a g e Char act eri zat ion of 10T  S R AM  Cell, ”  I EEE transactions on electron devices vol/issue: 59(3), 2012.  [7]   A. Rubio,  et  al .,  “Process variability  in  s ub-16nm  bulk CMOS tech nolog y , ”  Onlin e.  Ava ilabl e,   2012 [8]   H. Akinaga and  H. Shim a, “ R esistive Random  A ccess Mem o r y  ( R eRAM) Based on Metal Oxides ,”  Proceedings o f   the I EEE , pp . 22 37-2251, 2010 [9]   J. Singh,  et a l . “A single ended  6T SRAM cell  design  for u ltra- low-voltage applications,”  I E ICE    Electron.  Exp. vol/issue: 5(18), pp.  750–755 20 08.  [10]   H. Mizuno and T. Nagano , “Driving source-lin e cell architec ture  for sub- 1-V high-speed low-power applications ,”  IEEE  J .  Sol id-St a te C i rcuits , vol/issue: 31(4), pp.  552–557, 1996 [11]   “Tanner Technologies,   www.  Tanner tool. Com.   [12]   Z. Liu and  V. K u rsun, “Characterization  of  a No vel Nine- T ransis tor SRAM Cell, ”  IEEE transactions on very larg e   scale  integration  ( V LSI)  systems vol/issue: 16(4), 2008.  [13]   T. Miwa, “NV-SRAM: A  Nonvolatile SRAM wi t h  Backup Ferroelectric Cap a citor s ,”  IEEE  JOURNAL  OF SOL I D- ST AT E CIRCUIT S , vol/issue: 36 (3), 2001 [14]   Kariy a ppa B. S., “A Comparativ e Stud y  of 7T SRAM Cells,”  Internationa l Journal of Computer Trends and   Technology ( I JCTT) ,  vol/issue: 4 ( 7), 2013 [15]   Y. Shuto,  et a l ., “Analy sis of static  noise margin and power-gating effici en cy  o f  a new nonvolatile SRAM cell  using pseudo-spin-MOSFETs ,  IEEE 2012 Silico n Nanoel ectronics Workshop ( S NW) , pp. 1-2 ,  20 12.      Evaluation Warning : The document was created with Spire.PDF for Python.